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【广东,深圳市】深圳国际量子研究院原子层沉积镀膜仪项目意向公开
发布时间 2023-02-27 截止日期 立即查看
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招投标详情

***原子层沉积镀膜仪项目意向公开
采购单位:***
项目名称:原子层沉积镀膜仪项目
预算金额***/td>2,870,000.000
采购品目:其他机械设备
采购需求概况:1.基本功能
原子层沉积镀膜仪是一种最先进的薄膜生长设备。应用领域包括超导量子计算和硅基量子计算、量子器件(二维材料、半导体材料、纳米线等)的纳米制造、MEM***元件、传感器、致动器和其他用于材料和生命科学的器件。本次拟采购的设备是BENEQ公司的原子层沉积镀膜仪,型号TFS200。在薄膜生长领域,TFS200具有生长速度快,薄膜均匀性好,薄膜生长种类多等优点。
Beneq TFS 200 是一款适用于科学研究和企业研发的最灵活的 ALD 平台。 Beneq TFS 200 是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至最低而特别设计的。Beneq TFS 200 不仅可以在晶圆,平面物体上镀膜,还适用于粉末,颗粒,多孔的基底材料,或是有高深径比的3D物体内沉积高保形薄膜。直接和远程等离子体沉积 (PEALD) 可作为 Beneq TFS 200 的标准选项。等离子体是电容性耦合(CCP),这是当今的工业标准。等离子体选件可为直径200毫米的基板(面朝上或面朝下)提供直接和远程等离子体增强沉积 (PEALD) 。循环周期小于2秒。在特定的条件下可以小于1秒。高深径比(HAR)选项适用于通孔和多孔的基底材料。可快速加热和冷却的冷壁真空反应腔。
2.主要参数
(1) 环境控制与保护系统:
反应腔和前驱源配备有冷却系统,允许最大加热温度到500度;系统有警报和过载保护功能;设备具备防微尘功能,***区域洁净度达到100级,该洁净度针对0.1的颗粒(放置在百级间内);
(2)衬底镀膜的***区间:25 - 500 C
(3)配置有反应前驱源:
常温液体源:最大可以配置到4个
高温300度液体源:最大可以配置到4个
高温500度液体源:最大可以配置到2个
气***道:最大可以配置***路
(4)等离子体:
电容耦合等离子体,最大功率到300W
等离子体模式的沉积温度可以到350度
(5)臭氧发生器:可以生成臭氧前驱体
(6)前驱体横向流动沉积模式:减小前驱体颗粒碰撞,前驱体利用效率更高,薄膜生长均匀性好
(7)载物、运动及防护系统:
衬底托盘能够满足以下要求:
最大衬底尺寸:8inch x 8inch.
最小衬底尺寸:5 x 5 mm
衬底厚度:0.1 至 3 毫米
(8)软硬件控制系统
使用Windows7操作系统,内置人机交互系统;配方设置是基于虚拟的计算机语言,可以根据用户需求灵活编辑,无需源代码的编辑。
工作条件
(1)占地(包括维护)面积总共不超过4.3m x 2.5m,高度不超过1.6m;
(2)电源要求:380V/400V,50/60 Hz,32A,最大功耗22000W;
预计采购时间:2023-3
联系人:谢老师
联系电话:***
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